光刻機品牌主要分為三類：美國（asml、kla、應用材料）、荷蘭（asml）、日本（尼康、佳能、東京電子）。其中，asml在全球市場份額超過90%，占據(jù)主導地位。

光刻機品牌分類

光刻機是制造半導體芯片的關鍵設備，負責將芯片的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。以下是光刻機品牌的分類：

1. 美國

• ASML
• KLA
• 應用材料（Applied Materials）

2. 荷蘭

• ASML

3. 日本

• 尼康（Nikon）
• 佳能（Canon）
• 東京電子（Tokyo Electron）

4. 中國

• 上海微電子裝備（SMEE）
• 北方華創(chuàng)
• 中微半導體設備（AMEC）

5. 其他

• 德國蔡司（Carl Zeiss）
• 瑞士西門子（Siemens）
• 韓國三星

需要注意的是，ASML在全球光刻機市場占據(jù)主導地位，擁有超過90% 的市場份額。